等離子體設備設備對油脂污垢的作用類似于燃燒油脂污垢；但區別在于低溫下的燃燒。氧等離子體設備中氧原子自由基的共同作用，使油脂分子氧化為水和二氧化碳分子，從而除去油品接觸面。可見，利用等離子體設備清除(去除)油污的步驟是一個有機大分子逐步降解的步驟，生成水、二氧化碳等小分子，以氣態形式排除。 等離子體設備設備清洗的另一個特點是清洗后物體已經完全干燥。

     經等離子體設備處理的物體接觸面往往形成大多新的活性基團，使物體接觸面活(化)，改變性能，可以大大提高物體接觸面的滲透性和粘附性，這對大多材料非常重要。因此，等離子體設備設備清洗具有溶劑濕法清洗無法比擬的優點。

     等離子體設備設備清洗由真空室、真空泵、高壓電源、電級、汽體導進系統、工件傳輸系統和控制系統組成。整塊清洗步驟一般如下所述；清洗工件送真空固定，起動運作設備，逐漸放氣，使真空室真空值到達10帕上下的標準真空值。一般放氣時間需要幾分鐘上下。